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美國(guó)伊利諾伊理工學(xué)院

2013年02月21日來源:中教國(guó)際美國(guó)作者: 萬佳留學(xué)
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  伊利諾伊理工學(xué)院(Illinois Institute of Technology-Chicago)全美大學(xué)排名105名
  建校時(shí)間:1890年
  院校性質(zhì):私立
  本科在校學(xué)生:2216人
  語言要求:1.托福550分或新托福80分  2. SAT2:1318分或ACT2:1040分
  入學(xué)申請(qǐng)費(fèi):30美金
  TOEFL成績(jī)能否代替SAT或ACT:不可以
  主要申請(qǐng)專業(yè)(參考):工程、科學(xué)、建筑、設(shè)計(jì)、心理學(xué)、公共管理、通信技術(shù)、商業(yè)等
  國(guó)際學(xué)生學(xué)費(fèi):24113美金
  國(guó)際學(xué)生食宿費(fèi):8049美金
  申請(qǐng)截止時(shí)間:5月15日
  師生人數(shù)比例:13:1
  所在州:伊利諾伊州


  伊利諾伊斯理工大學(xué)Illinois Institute of Technology(簡(jiǎn)稱IIT)作為一所私立的天主教大學(xué)在全美國(guó)排名前100名,該學(xué)校的培訓(xùn)項(xiàng)目更是名列前茅。伊利諾伊斯理工大學(xué)是一所具有博士授予權(quán)的私立大學(xué),排名美國(guó)大學(xué)前100名。它建立于1890年,提供工程,科學(xué),建筑,設(shè)計(jì),以及心理學(xué),公共管理,通信技術(shù),商業(yè),以及法學(xué)等綜合學(xué)科。伊利諾伊斯理工大學(xué)也是獨(dú)立技術(shù)大學(xué)聯(lián)盟享有崇高聲望的成員之一。學(xué)校五大特點(diǎn)如下:


  在商業(yè)、研究和學(xué)術(shù)領(lǐng)域具有享譽(yù)世界的聲望磁介質(zhì)錄音的發(fā)明和發(fā)展,蜂窩通信的無限技術(shù)運(yùn)用,Pop Tarts臭氧層空洞的確認(rèn),為NASA設(shè)計(jì)的John Madden;John Hancock中心,芝加哥O′Hare機(jī)場(chǎng)聯(lián)合航空公司侯機(jī)樓,Lake Point大廈,新Solder Hold球場(chǎng)等設(shè)計(jì)。


 

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